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低温化・低コスト化実現のため，反応メカニズムの解明が重要である．しかし，初期中間体である HCOOad (formate)の水素化メカニズムについては，理論計算に よるモデルは示されている 1)ものの，実験的な解明はされていない．また，現行の反応温度(500-550 K)においては，観測される中間体の多くは熱的に不安定であ り，触媒表面から即座に脱離ないし分解することで観測が困難となる．そこで本研究では，Cu(111)表面上にギ酸の解離吸着で生成させた formate を，200 K 程度の 低温で原子状水素によって水素化し，不安定中間体を検出することを目的とした．
